STARPOWER-蒸發(fā)離化源(弧靶)
蒸發(fā)離化源又名真空等離子體加速器或圓形陰極弧源、電弧源、小弧源。本蒸發(fā)源具有鍍料蒸發(fā)率高、工作可靠、壽命長,能通過使用不同的鍍料產(chǎn)生多種鍍料蒸汽等特點(diǎn)。
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陰極弧源
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STARPOWER-蒸發(fā)離化源(弧靶)
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產(chǎn)品介紹
蒸發(fā)離化源又名真空等離子體加速器或圓形陰極弧源、電弧源、小弧源。本蒸發(fā)源具有鍍料蒸發(fā)率高、工作可靠、壽命長,能通過使用不同的鍍料產(chǎn)生多種鍍料蒸汽等特點(diǎn)。采用純銅陰極座,導(dǎo)電和冷卻效果好;一體成型的進(jìn)口聚四氟乙烯材料絕緣,有效防止跑弧,降低燒蝕法蘭等情況的出現(xiàn);304不銹鋼法蘭,堅(jiān)固耐用,電磁線圈引弧和氣缸引弧、直冷間冷、水冷單進(jìn)單出、雙進(jìn)雙出、法蘭水冷等等均可自由定制。根據(jù)不同機(jī)型,配置不同大小的欽鐵硼永磁鐵。結(jié)構(gòu)合理、用料考究、安裝方便、電弧均勻、故障率低,是陰極電弧離子鍍的首選離化源。
陰極電弧離子鍍膜技術(shù)的金屬離化率高,容易反應(yīng)沉積TiN等化合物膜
層,在沉積裝飾涂層和工模具硬質(zhì)涂層方面發(fā)揮了重要作用。工作過程是在靶(陰極)的表面形成能量非常集中并作無規(guī)則運(yùn)動的電弧陰極“斑”,使鍍料(陰極)蒸發(fā)離化。生成高密度靶材離子,當(dāng)與反應(yīng)氣體反應(yīng)后,在負(fù)偏壓作用下便會加速射向工件,實(shí)現(xiàn)反應(yīng)離子鍍工藝。
同時(shí)可以增設(shè)電磁場加速弧斑旋轉(zhuǎn)速度,減少金屬熔池、細(xì)化電弧,使膜
層致密。電磁場可以增設(shè)單線圈同軸電磁場和雙線圈電磁場。也可以采用電磁偏轉(zhuǎn)磁過濾系統(tǒng),分為一次90°偏轉(zhuǎn)和二次90°偏轉(zhuǎn)以及掃描電弧等方式,以獲得更純凈的離子流沉積,得到更高純度的薄膜。
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STARPOWER-磁控濺射靶
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