蒸發(fā)離化源又名真空等離子體加速器或圓形陰極弧源、電弧源、小弧源。本蒸發(fā)源具有鍍料蒸發(fā)率高、工作可靠、壽命長(zhǎng)，能通過使用不同的鍍料產(chǎn)生多種鍍料蒸汽等特點(diǎn)。
磁控濺射鍍膜技術(shù)在輝光放電中進(jìn)行，膜層粒子來源于輝光放電中的氬離子對(duì)陰極靶材產(chǎn)生的陰極濺射作用。濺射下來的膜層原子沉積到工件上形成所需膜層。
公司自創(chuàng)建以來，一直奮斗在鍍膜行業(yè)一線，并視客戶體驗(yàn)為立足之本。研發(fā)部由浙江大學(xué)信息與工程學(xué)院多名博士生導(dǎo)師親自領(lǐng)軍，為客戶提供自動(dòng)化程度高，性能優(yōu)異的電源及相關(guān)產(chǎn)品。
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